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陶氏OPTIPLANE 2118 研磨液是根據以上需求開發的一款研磨液產品。該產品為低磨料的酸性二氧化矽研磨液，用於平坦化先進CMP 節點中的介電膜。此款研磨液 ...

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雖然化學機械研磨製程是現代半導體業晶圓製造的重要技術，CMP製程在用於在超大規模 ... 然而，CMP製程中研磨液(Slurry)扮演了重大的角色，一般而言，研磨液主要成份有1 ...

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銅化學機械研磨. 製程及研磨液簡介. ◇李宗和. 長興化工公司. 半導體材料專案組副召集人. CMP技術組主任研究員. 前言. 隨著半導體工業的快速發展，元件.

CMP 化學機械研磨液中的高分辨率奈米粒徑及濃度分析. High Resoultion CMP Particle Size Distribution and Concentration Monitering by Nanoparticle Tracking ...